1. V-NAND Channel hole(V9, V10, V11) Etch 극저온 Process 개발 평가 : V9~V11 차세대 Channel hole Etch에 만족되는 세부 MTS를 충족시켜 공정의 완성도 향상2. Etch 설비 Process Log 분석을 통한 다양한 Chamber Trouble Shooting, 설비 간의 TTTM, OES 분석, Recipe Issue 등 다양한 Issue 대응 3. 양산 Line 대응 : 현장 설비에서 발생되는 다양한 Issue정리 및 원인 분석을 Process적인 해석 및 Modeling을 통한 개선 방향 제안4. V-SEM, PC측정기, 막두께측정기 등 업무에 요구되는 세부 측정 Tool 사용 5. CoC Parts 교환 업무, 설비 Chamber Design 및 Parts Role에 대한 전반적인 이해를 바탕으로 HW CIP Item 평가 대응
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Etch Process Engineer도쿄일렉트론코리아 Nov 2019 - PresentV-NAND Channel hole Etch 극저온 Process 개발 평가 대응 (2019.11~) @TTCK
Frequently Asked Questions about 조성제
What company does 조성제 work for?
조성제 works for 도쿄일렉트론코리아
What is 조성제's role at the current company?
조성제's current role is 도쿄일렉트론코리아 Etching Process Engineer.
What schools did 조성제 attend?
조성제 attended 대구가톨릭대학교.
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